አካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (Physical Vapor Deposition, PVD) ቴክኖሎጂ በቫኩም ሁኔታዎች ውስጥ አካላዊ ዘዴዎችን መጠቀምን ያመለክታል የቁሳቁስ ምንጭ (ጠንካራ ወይም ፈሳሽ) ወደ ጋዝ አተሞች ወይም ሞለኪውሎች, ወይም በከፊል ionize ወደ ions እና ዝቅተኛ ውስጥ ማለፍ. - የግፊት ጋዝ (ወይም ፕላዝማ). ሂደት, አንድ substrate ወለል ላይ ልዩ ተግባር ጋር ቀጭን ፊልም ለማስቀመጥ ቴክኖሎጂ, እና አካላዊ ትነት ማስቀመጥ ዋና ላዩን ህክምና ቴክኖሎጂዎች መካከል አንዱ ነው. የ PVD (አካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ) ሽፋን ቴክኖሎጂ በዋናነት በሶስት ምድቦች ይከፈላል፡- የቫኩም ትነት ሽፋን፣ የቫኩም ስፑተር ሽፋን እና የቫኩም ion ሽፋን።
ምርቶቻችን በዋናነት በሙቀት መትነን እና በማራገፊያ ሽፋን ላይ ያገለግላሉ። በእንፋሎት ማጠራቀሚያ ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውሉት ምርቶች የተንግስተን ስትራንድ ሽቦ, የተንግስተን ጀልባዎች, ሞሊብዲነም ጀልባዎች እና የታንታለም ጀልባዎች በኤሌክትሮን ጨረር ሽፋን ላይ ጥቅም ላይ የሚውሉት ምርቶች ካቶድ የተንግስተን ሽቦ, የመዳብ ክራንች, የተንግስተን ክሪብል እና ሞሊብዲነም ማቀነባበሪያ ክፍሎች ናቸው ለመተፋፊያ ሽፋን የሚያገለግሉ ምርቶች ቲታኒየም ያካትታሉ. ኢላማዎች፣ ክሮሚየም ኢላማዎች እና የታይታኒየም-አልሙኒየም ኢላማዎች።
